4006-635-996,010,69200960
產(chǎn)品簡介
產(chǎn)品概述：本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)使用的軟件控制系統(tǒng)。
產(chǎn)品分類
產(chǎn)品概述：
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)使用的軟件控制系統(tǒng)。
設(shè)備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
產(chǎn)品參數(shù)：
真空室結(jié)構(gòu):六邊形側(cè)開門
真空室尺寸:φ350x370mm
極限真空度:≤6.0E-4Pa
沉積源:永磁靶1套，φ2英寸
樣品尺寸，溫度:φ2英寸，1片，最高800℃
占地面積（長x寬x高）:約1米x1米x1.9米
電控描述:手動
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%
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