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產(chǎn)品概述： 本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)使用的軟件控制系統(tǒng)。

產(chǎn)品概述： 本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)專用的軟件控制系統(tǒng)。

本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)專業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途： 用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

沈陽(yáng)科儀高真空定向凝固系統(tǒng)--DHN400 真空室結(jié)構(gòu):圓筒形上開(kāi)蓋 真空室尺寸::φ440x500mm 極限真空度:≤6.67E-5Pa 沉積源:無(wú) 樣品尺寸，溫度:約p80mmx230mm，1800°C 占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約2米x2米x2米 電控描述:手動(dòng) 工藝:不含工藝

沈陽(yáng)科儀高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)--XC500 真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開(kāi)門(mén) 真空室尺寸:φ500X300mm 極限真空度:≤6.67E-5Pa 沉積源: 樣品尺寸，溫度:感應(yīng)熔煉10克純鐵樣品，在30秒鐘內(nèi)化 占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約2.7米x1.4米x2米 電控描述:手動(dòng) 特色參數(shù): 高速輥輪線速度0-50m/s可調(diào);坩堝手動(dòng)直線進(jìn)給機(jī)構(gòu);條帶接收器:Ф125x1500

沈陽(yáng)科儀高真空電子?xùn)|蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700 真空室結(jié)構(gòu): U形前開(kāi)門(mén) 真空室尺寸:700x700x900mm 極限真空度:≤6.6E-5Pa 沉積源:6個(gè)40cc坩堝 樣品尺寸，溫度:4英寸，26片，最高300℃C 占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約3.2米x3.9米x2.1米 工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤3% 特色參數(shù): 工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根據(jù)用戶基片尺